机译:使用多周期沉积-蚀刻工艺实现基于碲的所有介电光学超材料
Sandia National Laboratories, Albuquerque, New Mexico 87185, USA;
dielectric resonance; dielectric resonators; etching; optical fabrication; optical metamaterials; refractive index; tellurium; 4270-a; 7784Bw; 7820Ci; 8165Cf;
机译:使用多周期沉积-蚀刻工艺实现基于碲的所有介电光学超材料
机译:全介电零折射率光学超材料的实现
机译:全电介质中具有大光学活性的平面手性超材料直接透射的实验实现
机译:使用多周期沉积-蚀刻工艺实现基于碲的所有介电光学超材料
机译:基于铝/介电纳米层结构设计具有双曲线色散的光学超材料。
机译:电介质谐振腔中深亚波长限制的实验实现
机译:实现全介质零折射率光学超材料