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A metallic molybdenum suboxide buffer layer for organic electronic

机译:用于有机电子的金属低氧钼缓冲层

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摘要

Molybdenum trioxide u0002MoO3u0003 is commonly used as a buffer layer in organic electronic devices tonimprove hole-injection. However, stoichiometric MoO3 is an insulator, and adds a series resistance.nHere it is shown that a MoO3 buffer layer can be reduced to form a metallic oxide buffernthat exhibits more favorable energy-level alignment with N,Nu0002-diphenyl-N,Nu0002-bis-nu00021-naphthylu0003-1-1u0002-biphenyl-4,4u0002-diamine u0002u0002-NPDu0003 than does MoO3. This buffer layer thus providesnthe conductivity of a metal with the favorable energy alignment of an oxide. Photoemission showsnthe reduced oxide contains Mo4+ and Mo5+, with a metallic valence band structure similar to MoO2.n© 2010 American Institute of Physics. u0004doi:10.1063/1.3432447
机译:三氧化钼通常用作有机电子器件的缓冲层,以改善空穴注入。然而,化学计量的MoO3是绝缘体,并增加了串联电阻。n此处表明,可以还原MoO3缓冲层以形成金属氧化物缓冲层,该缓冲层与N,Nu0002-二苯基-N,Nu0002-具有更好的能级对齐。与MoO3相比,bis-nu00021-naphthylu0003-1-1u0002-biphenyl-4,4u0002-二胺u0002u0002-NPDu0003。因此,该缓冲层提供了金属的导电性以及氧化物的有利的能量取向。光发射显示还原的氧化物包含Mo4 +和Mo5 +,具有与MoO2相似的金属价带结构。n©2010美国物理研究所。 u0004doi:10.1063 / 1.3432447

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2010年第21期|p.1-3|共3页
  • 作者单位

    Department of Materials Science and Engineering, University of Toronto, 184 College Street, Toronto,Ontario M5S 3E4, Canada;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类
  • 关键词

  • 入库时间 2022-08-17 13:59:19

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