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Study of photoluminescence in nanocrystalline silicon/amorphous silicon multilayers

机译:纳米晶硅/非晶硅多层膜中的光致发光研究

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摘要

We report in this letter the observation of visible photoluminescence (PL) at room temperature from hydrogenated nanocrystalline silicon (nc-Si:H)/amorphous silicon (a-Si:H) multilayers (MLs) prepared in a plasma enhanced chemical vapor deposition system without any postprocessing. The PL peak wavelength can be controlled, blueshifting from 750 to 708 nm, through reducing the width of the nc-Si:H sublayers from 4.0 to 2.1 nm. Quantum size effect in nc-Si:H sublayers of the ML is responsible for the emission above the band gap of bulk crystal Si.
机译:我们在这封信中报告了在等离子体增强化学气相沉积系统中制备的氢化纳米晶硅(nc-Si:H)/非晶硅(a-Si:H)多层(MLs)在室温下的可见光致发光(PL)的观察结果无需任何后处理。通过将nc-Si:H子层的宽度从4.0 nm减小到2.1 nm,可以控制PL峰值波长,从750 nm蓝移到708 nm。 ML的nc-Si:H子层中的量子尺寸效应是导致块状晶体Si带隙以上的发射的原因。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |1995年第4期|p.469-471|共3页
  • 作者单位

    Department of Physics/National Laboratory of Solid State Microstructures, Nanjing University, Nanjing, People's Republic of China;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;
  • 关键词

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