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【24h】

Real-time detection of ambient oxidation of steps and terraces on Si(111)-(1×1):H by scanning force microscopy

机译:通过扫描力显微镜实时检测Si(111)-(1×1):H上台阶和平台的环境氧化

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摘要

The initial stage of oxide formation on Si(111)-(1×1):H, a highly controversial problem, has been studied using scanning force microscopy under ambient conditions (25% relative humidity at 20℃). Real-time monitoring of changes in the root-mean-squared (rms) roughness of the broad terraces and step heights was performed at the same surface spots. The height of the bilayer steps increased by 0.2-0.3 nm with a maximum after about 22 h and decreased afterward due to further oxidation of the terrace on a longer time scale. This finding clearly suggests fast bilayer step oxidation, as opposed to terrace oxidation, contrary to previous reports.
机译:在环境条件下(20℃相对湿度为25%),使用扫描力显微镜研究了在Si(111)-(1×1):H氧化物形成的初始阶段,这是一个备受争议的问题。在相同的表面斑点上,实时监测宽阶地的均方根(rms)粗糙度和台阶高度的变化。双层台阶的高度在约22 h后最大增加了0.2-0.3 nm,之后由于台阶在更长的时间尺度上进一步氧化而减小了。与以前的报道相反,这一发现清楚地表明,与台阶氧化相反,双层快速氧化是快速的。

著录项

  • 来源
    《Applied Physics Letters》 |2004年第18期|p.4157-4159|共3页
  • 作者

    Abbas Khan; Peter Hess;

  • 作者单位

    Institute of Physical Chemistry, University of Heidelberg, Im Neuenheimer Feld 253, D-69120 Heidelberg, Germany;

  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
  • 中图分类 应用物理学;
  • 关键词

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