机译:原子层沉积氧化ha中氯残留物的影响:密度泛函理论研究
机译:三甲基铝和四(乙基甲基氨基)ha在氧化铝和氧化ha原子层沉积早期对羟基化GaN纳米团簇的影响
机译:四(二甲基amide)和水/臭氧在原子层上沉积的氧化nium薄膜的电学特性:生长温度,氧气源和沉积后退火的影响
机译:用原子层沉积在玻璃基板上生长二氧化铪和氧化铝膜的摩擦学研究
机译:氯化铪和水的氧化铪的原子层沉积
机译:高k栅极电介质的反应:在ha,锆,钇和镧基电介质以及二氧化ha原子层沉积的原位红外结果方面的研究。
机译:通过原子层沉积(ALD)技术获得的氧化铪(IV)氧化物通过激活RUNX2-OPN-MIR21A轴来促进早期骨肉发生同时抑制破骨细胞活性
机译:四(二甲基amide)和水/臭氧在原子层上沉积的氧化nium薄膜的电学特性:生长温度,氧气源和沉积后退火的影响