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Visible photoemission from InN

机译:InN可见光发射

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摘要

At 5.8 eV, InN has one of the highest electron affinities of any semiconductor. Upon applying cesium and oxygen to a previously hydrogen cleaned InN surface, visible photoemission was observed. The InN spectral response confirms the standard model of photoemission yield with an inclusion of a tunneling factor for the electron escape probability. The existence of photoemission beyond 950 nm supports the case for a lower bandgap in this material.
机译:InN在5.8 eV时具有任何半导体中最高的电子亲和力之一。在将铯和氧施加到先前用氢气清洁过的InN表面上时,观察到可见的光发射。 InN光谱响应证实了光发射率的标准模型,其中包括电子逃逸几率的隧穿因子。超过950 nm的光发射的存在支持了这种材料具有较低带隙的情况。

著录项

  • 来源
    《Applied Physicsletters》 |2008年第8期|130-132|共3页
  • 作者

    J. W. Glesener; J. P. Estrera;

  • 作者单位
  • 收录信息 美国《科学引文索引》(SCI);美国《工程索引》(EI);美国《生物学医学文摘》(MEDLINE);
  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 eng
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