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机译:介电相关界面宽度对顶栅P(NDI2OD-T2)场效应晶体管中器件性能的影响
Department of Physics, North Carolina State University, Raleigh, North Carolina 27695, USA;
Cavendish Laboratory, Department of Physics, University of Cambridge, J J Thomson Ave,Cambridge CB3 OHE, United Kingdom;
Cavendish Laboratory, Department of Physics, University of Cambridge, J J Thomson Ave,Cambridge CB3 OHE, United Kingdom;
Department of Materials Engineering, Monash University, Clayton, VIC 3800, Australia;
Department of Physics, North Carolina State University, Raleigh, North Carolina 27695, USA;
机译:勘误表:“取决于介质的界面宽度对顶栅P(NDI2OD-T2)场效应晶体管中器件性能的影响”物理来吧101,093308(2012)]
机译:碳带宽度和掺杂浓度对石墨烯纳米带隧穿场效应晶体管器件性能的影响
机译:Au顶部接触电极的空穴注入势垒不可重现的根源及其对顶部接触有机场效应晶体管中器件性能的影响
机译:带有嵌入式电极的基于苯并噻吩并苯并噻吩的顶栅有机场效应晶体管的器件性能
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机译:顶部栅极聚合物场效应晶体管中的二维载流子分布:局域态密度宽度与Urbach能量之间的相关性
机译:错误:“介电依赖性界面宽度对顶部栅极P(NDI2OD-T2)场效应晶体管的装置性能的影响”应用。物理。吧。 101,093308(2012)
机译:al sub x Ga sub 1-x作为缓冲层对调制掺杂场效应晶体管性能的影响