机译:Ge_2Sb_2Te_5中阈值电压电感应漂移的证据
Dipartimento di Elttronica, Informazione e Bioingegneria, Politecnico di Milano and IUNET,piazza L. da Vinci 32,I-20133 Milano (MI), Italy;
Dipartimento di Elttronica, Informazione e Bioingegneria, Politecnico di Milano and IUNET,piazza L. da Vinci 32,I-20133 Milano (MI), Italy;
Dipartimento di Elttronica, Informazione e Bioingegneria, Politecnico di Milano and IUNET,piazza L. da Vinci 32,I-20133 Milano (MI), Italy;
机译:使用扫描电纳米探针的Ge_2Sb_2Te_5和掺Sb的Ge_2Sb_2Te_5薄膜的动态阈值切换行为
机译:动态栅极应力诱导碳化硅MOSFET的阈值电压漂移
机译:不同栅极凹陷技术的常关型GaN MOSFET中界面陷阱引起的随时间变化的阈值电压漂移
机译:具有大体效应和低阈值电压的高性能电感应体动态阈值SOI MOSFET(EIB-DTMOS)
机译:金属氧化物半导体场效应晶体管中随机掺杂引起的阈值电压波动分析
机译:低阈值电压和电可转换的偏振选择散射模式液晶光闸
机译:具有大体效应和低阈值电压的高驱动电流电感应体动态阈值sOI mOsFET(EIB-DTmOs)
机译:Inp n沟道增强模式金属 - 绝缘体 - 半导体场效应晶体管的阈值电压漂移。