机译:钴掺杂Bi_2Se_3拓扑绝缘子的磁输运和近藤效应
Department of Physics, Indian Institute of Technology Delhi (IITD), New Delhi 110016, India;
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机译:钴掺杂Bi_2Se_3纳米拓扑绝缘体的制备
机译:1D拓扑Kondo绝缘体中的拓扑阶段:Z(2)拓扑绝缘体,卤代相位和Kondo击穿
机译:CR掺杂拓扑绝缘体Bi_2se_3中的杂质带辅助载体松弛
机译:Ni掺杂拓扑绝缘体Bi_2se_3纳米粒子的温度依赖性I-V特性
机译:对近藤晶格材料的掺杂作用:硅化铁,铈钴铟,铟铜。
机译:金属表面状态在相关的D-电子拓扑kondo绝缘体候选fesb2中
机译:拓扑绝缘子,拓扑结晶绝缘子,拓扑结构 semimetals和拓扑Kondo绝缘体