机译:大功率脉冲磁控溅射高导电超薄Co膜
Solid State Electronics, The Angstroem Laboratory, Uppsala University, SE-75121 Uppsala, Sweden;
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机译:大功率脉冲磁控溅射生长TiN薄膜的形核和电阻率
机译:室温下制备的透明导电掺铝ZnO薄膜的高速率反应大功率脉冲磁控溅射
机译:在环境温度下制备的透明导电AL掺杂ZnO薄膜的高速反应性高功率脉冲磁控溅射
机译:倾斜靶在不同工作压力下大功率脉冲磁控溅射沉积AlN薄膜
机译:通过大功率脉冲磁控溅射沉积的银膜的电学和光学性质。
机译:大功率脉冲磁控溅射镍薄膜的斜角沉积
机译:通过反应高功率脉冲磁控溅射均匀,高度透明和导电Al掺杂ZnO膜的室温沉积