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Full InGaN red (625 nm) micro-LED (10 μm) demonstration on a relaxed pseudo- substrate

机译:在宽松的伪衬底上全IngaN红色(625 nm)微LED(10μm)演示

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摘要

The full InGaN structure was grown on two different InGaNOS substrates from Soitec. An electron blocking layer was inserted in the full InGaN light emitting diode (LED). Enhanced internal quantum efficiency of red emitting InGaN/InGaN quantum wells was measured with a value above 10% at 640 nm. 10 mu m diameter circular micro-LEDs are emitted at 625 nm with an external quantum efficiency of 0.14% at 8 A cm(-2) with an estimated light extraction efficiency below 4%. With a a lattice parameter of 3.210 angstrom, InGaN based red LED can also emit up to 650 nm.
机译:从SOITEC的两种不同的Inganos底物上生长完全Ingan结构。 将电子阻挡层插入完整的IngaN发光二极管(LED)中。 增强了发射红兰/ ingaN量子孔的红色内部量子效率以640nm的值高于10%。 10μm型圆形微LED在625nm处发射,外部量子效率为0.14%,在8厘米(-2)下,估计的光提取效率低于4%。 使用3.210埃钟的晶格参数,基于IngaN的红色LED也可以发射650nm。

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