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机译:用于极端紫外光刻的化学放大抗蚀剂中酸产生的增强
机译:极紫外光刻技术中化学放大抗蚀剂中吸收系数和产酸效率对产酸剂浓度的依赖性
机译:用于极端紫外光刻的化学放大抗蚀剂能量不足区域中灵敏度提高的理论研究
机译:化学放大抗蚀剂的感光度增强和使用极端紫外线干涉光刻的性能研究
机译:用于极端紫外光刻的阴离子结合化学放大抗蚀剂中的产酸机理
机译:探索基于溶出抑制剂的非化学放大抗蚀剂,用于193 nm光刻。
机译:迈向极紫外光刻的高精度反射计
机译:用于极端紫外光刻的分辨率模糊与化学放大抗蚀剂随机缺陷的关系