巨大クラスターィォン衝撃によるX線光電子分光法の深さ方向分析の展開

摘要

Sputter etching with cluster ions, formed by several thousands of atoms (moleculars) over, is attracting attention as polymer depth profiling in X-ray photoelectron spectroscopy (XPS). Cluster ion beam etching is a low energy ions irradiation method that can reduce sample damage. We investigated the XPS depth profiling of polymer films by using giant cluster ions, which are charged water droplet giant cluster ions. As a result, it was shown that the charged water droplet cluster ion etching method is very effective for the XPS depth profile analysis of polymers.%数千個以上の原子や分子から構成されるクラスターイオン照射法がX線光電子分光法(XPS)での高分子材料の深さ方向分析法として注目が集まっている.クラスターイオンエッチング法は試料損傷を軽減できる低エネルギー照射法である.著者らは帯電液滴巨大水クラスターィォンである带電液滴をXPSと組み合わせ，高分子材料の深さ方向分析を試みた.その結果，高分子材料の化学組成·結合状態への損傷が著しく軽減し，高分子材料に対するXPSの深さ方向分析に対し有効であることが判明した.