机译:最近的简单且经济高效的自上而下光刻的进展,用于≈10nm尺寸纳米图案:从边缘光刻到次级溅射光刻
Korea Adv Inst Sci & Technol Dept Chem & Biomol Engn Plus BK 21 Daejeon 34141 South Korea|Korea Adv Inst Sci & Technol Inst NanoCentury Daejeon 34141 South Korea;
Samsung Elect Co Ltd Semicond R&D Ctr 1 Samsungjeonja Ro Hwaseong Si 18448 Gyeonggi Do South Korea;
Korea Adv Inst Sci & Technol Dept Chem & Biomol Engn Plus BK 21 Daejeon 34141 South Korea|Korea Adv Inst Sci & Technol Inst NanoCentury Daejeon 34141 South Korea|MIT Dept Chem Engn Cambridge MA 02139 USA;
Korea Polytech Univ Dept Chem Engn & Biotechnol Siheung Si 15073 Gyeonggi Do South Korea;
Korea Adv Inst Sci & Technol Dept Chem & Biomol Engn Plus BK 21 Daejeon 34141 South Korea|Korea Adv Inst Sci & Technol Inst NanoCentury Daejeon 34141 South Korea;
high-aspect-ratio nanopatterning; high-resolution nanopatterning; secondary sputtering lithography;
机译:嵌段共聚物光刻的原子层沉积辅助图案倍增用于5 nm规模的纳米图案化
机译:合理设计Au,Pt和SiO2纳米多孔纳米图案阵列:光刻,溅射和选择性溶解合成
机译:电化学光刻微细化和纳米化的研究进展
机译:混合与匹配电子束和扫描探针光刻技术,可实现亚10纳米以下的高通量光刻
机译:用于EUV光刻的光刻胶中的线边缘粗糙度和二次电子相互作用的研究
机译:基于边缘光刻技术的高纵横比纳米通道的晶圆级制备
机译:高分辨率纳米透明机构:近期纯粹和经济高效的自上而下的光刻的最新进展,用于≈10nm尺寸纳米图:从边缘光刻到次级溅射光刻(ADV。Mater。35/2020)