Approaching Gas Phase Electrodeposition: Process and Optimization to Enable the Self-Aligned Growth of 3D Nanobridge-Based Interconnects

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• 来源
  《Advanced Materials》 |2016年第9期|1770-1779|共10页
• 作者

  Fang Jun; Schlag Leslie; Park Se-Chul; Stauden Thomas; Pezoldt Joerg; Schaaf Peter; Jacobs Heiko O.;

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• 作者单位

  Univ Minnesota, Elect & Comp Engn, 200 Union St SE, Minneapolis, MN 55455 USA;

  Tech Univ Ilmenau, Fachgebiet Nanotechnol, Gustav Kirchhoff Str 1, D-98693 Ilmenau, Germany;

  Univ Minnesota, Elect & Comp Engn, 200 Union St SE, Minneapolis, MN 55455 USA;

  Tech Univ Ilmenau, Fachgebiet Nanotechnol, Gustav Kirchhoff Str 1, D-98693 Ilmenau, Germany;

  Tech Univ Ilmenau, Fachgebiet Nanotechnol, Gustav Kirchhoff Str 1, D-98693 Ilmenau, Germany;

  Tech Univ Ilmenau, Fachgebiet Werkstoffe Elektrotech, Gustav Kirchhoff Str 5, D-98693 Ilmenau, Germany;

  Tech Univ Ilmenau, Fachgebiet Nanotechnol, Gustav Kirchhoff Str 1, D-98693 Ilmenau, Germany;

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