cathodoluminescence spectroscopy; SiO;
机译:氧化硅薄膜中应力引起的缺陷的光谱分析
机译:傅里叶变换红外光谱和阴极荧光光谱相结合表征4H-碳化硅外延衬底上二氧化硅薄膜的不均匀性
机译:可变角度光谱椭圆仪在硅上生长的天然二氧化硅膜的折射率和厚度分析
机译:阴极发光光谱研究热氧化硅膜的非破坏性应力
机译:光学干涉测量法在硅基板上的二氧化硅膜中的平面内残余应力。
机译:通过乙醇酸合成衍生的纯Zr型和Ce掺杂的二氧化钒热致致致料膜的Ormando衍射和光谱评价
机译:氧化硅膜的阴极发光光谱应力分析及其损伤评价