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Thermodynamic-driven polychromatic quantum dot patterning for light-emitting diodes beyond eye-limiting resolution

机译:热力学驱动的发光二极管多色量子点构图超出了极限

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摘要

Schematic of iTP process. The two key stages of iTP are emphasized with dotted magenta boxes. SEM images of printed QD arrays in different resolutions: single-particle, 350 nm, 1 µm, 5 µm, and entire film (from left to right). SEM images of topographic trench template fabricated on Si substrate, patterned QD film in trench domain, the Si template after QDs are picked, and printed QD pattern (from left to right). SEM image of printed QD pixel array (500 nm pixel width). Topographic AFM images of the Si template ( ), picked ( ), and printed ( ) QD pixel. AFM thickness profile plot of the Si template, picked and printed QD pixel.
机译:iTP过程示意图。点缀洋红色框强调了iTP的两个关键阶段。打印的QD阵列的SEM图像具有不同的分辨率:单粒子,350 nm,1 µm,5µµm和整个薄膜(从左到右)。在硅衬底上制作的地形沟槽模板的SEM图像,在沟槽域中构图QD膜,拾取QD之后的Si模板,并打印QD图案(从左到右)。印刷的QD像素阵列(500?nm像素宽度)的SEM图像。 Si模板(),拾取()和打印()QD像素的地形AFM图像。 Si模板的AFM厚度轮廓图,已拾取并打印的QD像素。

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