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ReS2 Charge Trapping Synaptic Device for Face Recognition Application

机译:ReS2电荷陷阱突触设备用于人脸识别应用

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摘要

The synaptic devices based on ReS 2D material. Crystal structure of monolayer ReS . Optical image of a five-layer ReS flake. Inset: source and drain electrodes patterned on the ReS flake; direction is taken as the direction of channel current. The AFM image and height profile of the ReS flake. Schematic diagram of a 2D material ReS synaptic device. The thickness of the Al O , ZrO , and Al O stack (from bottom) is 12 nm, 4 nm, and 4 nm, respectively
机译:基于ReS 2D材料的突触设备。单层ReS的晶体结构。五层ReS薄片的光学图像。插图:在ReS薄片上图案化的源极和漏极;方向作为通道电流的方向。 ReS薄片的AFM图像和高度轮廓。 2D材料ReS突触设备的示意图。 Al O,ZrO和Al O堆叠的厚度(从底部开始)分别为12 nm,4 nm和4 nm。

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