机译:纳米拉丝光刻技术对支持的双层膜进行亚100纳米图案化
机译:通过纳米压印光刻技术对亚100 nm外延L10 FePt点阵列进行大面积构图
机译:100纳米以下有机单层构图的催化印模平版印刷
机译:新的聚合物阴离子光酸发生器(PAG)和300nm图案化的光致抗蚀剂到193nm光刻
机译:在非晶衬底和用于3D集成电路的高性能亚100 nm薄膜晶体管上的纳米图形引导的单晶硅生长。
机译:通过化学剥离光刻法对负载的金单层进行构图
机译:南美音术光刻的支撑双层的亚100nm图案化
机译:用于亚100nm X射线光刻的紧凑,低成本系统