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Fractal Nature of Metallic and Insulating Domain Configurations in a VO2 Thin Film Revealed by Kelvin Probe Force Microscopy

机译:用开尔文探针力显微镜揭示的VO2薄膜中金属和绝缘畴结构的分形性质

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摘要

We investigated the surface work function (WS) and its spatial distribution for epitaxial VO2/TiO2 thin films using Kelvin probe force microscopy (KPFM). Nearly grain-boundary-free samples allowed observation of metallic and insulating domains with distinct WS values, throughout the metal–insulator transition. The metallic fraction, estimated from WS maps, describes the evolution of the resistance based on a two-dimensional percolation model. The KPFM measurements also revealed the fractal nature of the domain configuration.
机译:我们使用开尔文探针力显微镜(KPFM)研究了外延VO2 / TiO2薄膜的表面功函数(WS)及其空间分布。在整个金属-绝缘体的过渡过程中,几乎没有边界的样品可以观察到具有不同WS值的金属和绝缘区域。从WS贴图估计的金属含量描述了基于二维渗流模型的电阻变化。 KPFM测量还揭示了域配置的分形性质。

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