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Photoluminescence quantum efficiency of Er optical centers in GaN epilayers

机译:GaN外延层中Er光学中心的光致发光量子效率

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摘要

We report the quantum efficiency of photoluminescence processes of Er optical centers as well as the thermal quenching mechanism in GaN epilayers prepared by metal-organic chemical vapor deposition. High resolution infrared spectroscopy and temperature dependence measurements of photoluminescence intensity from Er ions in GaN under resonant excitation excitations were performed. Data provide a picture of the thermal quenching processes and activation energy levels. By comparing the photoluminescence from Er ions in the epilayer with a reference sample of Er-doped SiO2, we find that the fraction of Er ions that emits photon at 1.54 μm upon a resonant optical excitation is approximately 68%. This result presents a significant step in the realization of GaN:Er epilayers as an optical gain medium at 1.54 μm.
机译:我们报告了Er光学中心的光致发光过程的量子效率,以及通过金属有机化学气相沉积制备的GaN外延层的热猝灭机理。在共振激发激发下,对GaN中Er离子的光致发光强度进行了高分辨率红外光谱和温度依赖性测量。数据提供了热淬火过程和活化能水平的图。通过将外延层中的Er离子的光致发光与掺Er的SiO2的参考样品进行比较,我们发现在共振光激发下以1.54μm的波长发射光子的Er离子的比例约为68%。这一结果为实现GaN:Er外延层作为1.54μm的光学增益介质迈出了重要的一步。

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