机译:Si和GaAs衬底上结晶原子层沉积的氧化铍薄膜的电和物理特性
机译:L_g = 100 nm In_(0.7)Ga_(0.3)As量子阱金属氧化物半导体场效应晶体管,其中原子层沉积氧化铍作为界面层
机译:原子层沉积的氧化铍:Ⅲ-Ⅴ类金属/氧化物/半导体器件的有效钝化层
机译:用于晶体硅表面钝化的原子层沉积电介质和/或半导体氧化物双层
机译:研究4H-碳化硅-碳化硅上低温原子沉积的氧化物及其对碳化硅/二氧化硅界面的影响。
机译:隧穿原子层沉积氧化铝:硅结的表面钝化的相关结构/电性能研究
机译:先进的绝缘体上硅:原子层上沉积的结晶硅沉积氧化铍