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Structural investigations of the α12 Si–Ge superstructure

机译:α12Si-Ge上层结构的结构研究

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摘要

This article reports the X-ray diffraction-based structural characterization of the α12 multilayer structure SiGe2Si2Ge2SiGe12 [d’Avezac, Luo, Chanier & Zunger (2012). Phys. Rev. Lett. >108, 027401], which is predicted to form a direct bandgap material. In particular, structural parameters of the superlattice such as thickness and composition as well as interface properties, are obtained. Moreover, it is found that Ge subsequently segregates into layers. These findings are used as input parameters for band structure calculations. It is shown that the direct bandgap properties depend very sensitively on deviations from the nominal structure, and only almost perfect structures can actually yield a direct bandgap. Photoluminescence emission possibly stemming from the superlattice structure is observed.
机译:本文 报告了α12多层结构SiGe2Si2Ge2SiGe12 [d’Avezac,Luo,Chanier&Zunger(2012)的基于X射线衍射的结构表征。物理牧师> 108 ,027401],预计会形成直接的带隙材料。特别地,获得了超晶格的结构参数,例如厚度和组成以及界面特性。此外,发现Ge随后分离成层。这些发现被用作能带结构计算的输入参数。结果表明,直接的带隙性质非常敏感地取决于与标称结构的偏差,并且实际上只有几乎完美的结构才能产生直接的带隙。观察到可能源自超晶格结构的光致发光发射。

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