near-field etching organic photoresists surface improvement wavelength dependence;
机译:使用依赖于近场的蚀刻方法对有机光刻胶进行表面处理
机译:二维动态CA方法用于光刻胶刻蚀模拟的改进及其在SU-8光刻胶深紫外光刻模拟中的应用
机译:用环糊精衍生的水溶脱模剂有效喷涂去除氧化铟锡表面上的有机光刻胶
机译:使用具有KRF深紫外光致抗蚀剂的新型抗反射涂层蚀刻速率改善
机译:用于二氧化钛/水系统的ReaxFF反作用力场的开发及其在蚀刻,具有有机溶剂的纳米颗粒以及纳米晶体表面上的离子吸附中的应用。
机译:酸蚀作为玻璃陶瓷修复体的表面处理方法第1部分:酸应用方案和蚀刻效果
机译:使用近场依赖性蚀刻方法改善有机光致抗蚀剂的表面