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多晶硅还原炉内主要残留物及清理工艺

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摘要

多晶硅产品质量要求较高,在生产中还原炉每运行一个周期,其内表面都会残留有Si等污垢.经分析研究可采用氢氧化钠溶液作为清洗液,并根据残留物分布情况对还原炉基盘和钟罩分别采用特定的清理工艺进行处理,能够满足高纯多晶硅生产洁净要求.

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来源
《云南化工》 |2013年第5期|77-79|共3页
作者
周万礼;
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作者单位

昆明冶研新材料股份有限公司云南曲靖655011;

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正文语种 chi
中图分类硅及其无机化合物;
关键词
还原炉; 残留物; 清理工艺; 多晶硅;

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