多弧离子镀沉积过程中等离子体参数对薄膜沉积的影响

摘要

采用平面探针测试了衬底附近的电流密度,弧电流和衬底偏压的增加均有助于增加到达衬底附近的离子的数量。弧电流增加引起衬底的温升,衬底偏压对衬底温度影响较小。采用多弧离子镀技术沉积C r-N薄膜,衬底偏压对薄膜的硬度影响较小;弧电流增大,薄膜的硬度随之降低。XRD分析表明,弧电流较高时,不利于C r-N相的形成,薄膜中以C r的宏观液滴为主,薄膜硬度较低。