沉积工艺参数对电弧离子镀薄膜沉积速率影响的研究进展

摘要

阴极电弧离子镀技术作为工业应用最多的真空镀膜技术之一,近年来得到了长足发展.但是仍存在一些技术问题尚未完全解决,如大颗粒污染、所沉积的薄膜残余应力大、不能实现低温沉积等.另一方面,电弧离子镀的沉积效率仍有待提高,尽管与同属物理气相沉积(PVD)技术的磁控溅射相比,拥有较高的沉积速率,但对于沉积厚膜(厚度超过20μm甚至50μm)而言,其通常的沉积速率(一般在1～10μm/h内)较低,仍需要较长时间.针对这一问题,总结了不同沉积工艺参数对沉积速率的影响,综述了近年来电弧离子镀技术在提高沉积速率方面的研究进展,以期对该技术的发展提供一定的技术支持.