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黄宁康; 熊兆奎; 汪德志; 胡志荃;
四川大学原子核科学技术研究所;
厦门灯泡厂;
薄膜; 退火; 相结构; 氧化锆; 氧化钇;
机译:衬底温度和退火后处理对溅射沉积ZnO:Al薄膜微结构和电学性能的影响
机译:氧气中退火后处理对化学溶液沉积制备的K_0.5Na_0.5NbO_3薄膜介电性能的影响
机译:Al掺杂和退火后处理对沉积在Si衬底上的ZnO:Al薄膜的结构和光学性能的影响
机译:衬底温度和退火后处理对溅射沉积ZnO:Al薄膜微结构和电性能的影响
机译:使用原子和分子层沉积技术沉积的无机和杂化有机-无机薄膜的生长,表征和后处理。
机译:在3C-SiC(111)/ Si(111)基板上进行ZnO(002)薄膜的RF溅射退火后处理和表征
机译:在3C-SiC(111)/ Si(111)基板上进行ZnO(002)薄膜的RF溅射,退火后处理和表征
机译:CmR薄膜的微观结构研究作为沉积和退火的生长温度的函数
机译:使用等离子体增强原子层沉积形成ZrO2薄膜的方法以及制造具有该薄膜的半导体存储器件的电容器的方法
机译:利用等离子体增强原子层沉积形成Zro2薄膜的方法以及制造具有该薄膜的半导体存储器的电容器的方法
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