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脉冲离子源所镀膜层厚度分布曲线的测量

         

摘要

为了解决大面积类金刚石薄膜的均匀性,首先要研究脉冲离子源所镀制的类金刚石薄膜的厚度分布曲线.针对这一目的,做了大量工艺实验,在不同的脉冲离子源电源参数(主回路电压,脉冲频率)、基片高度以及磁场等工艺参数下制备了样品,并选择了一种合适的膜厚测量仪器进行了膜厚分布测量,获得了在各种工艺参数下脉冲离子源所镀膜层厚度的分布曲线.

著录项

  • 来源
    《真空电子技术》 |2002年第2期|25-27|共3页
  • 作者单位

    西安交通,大学电气工程学院,陕西,西安,710049;

    西安工业学院,光电工程与科学系,陕西,西安,710032;

    西安交通,大学电气工程学院,陕西,西安,710049;

    西安工业学院,光电工程与科学系,陕西,西安,710032;

    西安工业学院,光电工程与科学系,陕西,西安,710032;

    西安工业学院,光电工程与科学系,陕西,西安,710032;

    西安工业学院,光电工程与科学系,陕西,西安,710032;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 真空镀膜;
  • 关键词

    脉冲离子源; 薄膜沉积; 膜厚测量;

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