脉冲电弧离子源镀膜均匀性的研究

摘要

镀膜均匀性是脉冲真空电弧离子源应用需要解决的一个重要问题。本文首先分析了在脉冲真空电弧离子镀膜过程中 ,采用不同阴极尺寸、不同辅助阳极尺寸引起所镀膜层透过率曲线的改变 ,进而讨论了脉冲真空电弧离子源电极几何尺寸对膜厚均匀性的影响。在基片下加一个圆筒形负电位电极 ,实现了脉冲真空电弧离子源镀膜的均匀性。实验结果表明 ,采用这一技术 ,在 70mm范围内 ,基片透过率的相对变化可达到± 6.