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一种电弧离子源及电弧离子源镀膜方法

摘要

本公开提供了一种电弧离子源及电弧离子源镀膜方法,能够显著提高膜层表面质量,提高靶材利用率,消除大颗粒污染,以提高膜层制备的经济效益。该电弧离子源包括至少两个磁场产生装置、靶材和电信号输出装置,两个磁场产生装置对称设置在靶材的两侧,每个磁场产生装置包括电磁线圈和永磁体,所述电磁线圈位于所述靶材的靶面上方,所述永磁体位于所述靶材的靶面下方,所述电信号输出装置与电磁线圈连接,用于给电磁线圈施加激励电信号,电磁线圈接收到激励电信号后,与永磁体之间产生轴对称且极性相对的耦合磁场,使得靶材的靶面上各个位置的垂直磁场强度相同。

著录项

  • 公开/公告号CN109680250A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2019-04-26

    原文格式PDF

  • 申请/专利号CN201910075119.8

  • 发明设计人 蔺增;乔宏;王光文;李汪星;

    申请日2019-01-25

  • 分类号

  • 代理机构济南圣达知识产权代理有限公司;

  • 代理人李琳

  • 地址 271000 山东省泰安市高新区配天门大街1608号

  • 入库时间 2024-02-19 08:42:25

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2019-05-21

    实质审查的生效 IPC(主分类):C23C14/32 申请日:20190125

    实质审查的生效

  • 2019-04-26

    公开

    公开

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