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CVD金刚石膜场致发射的机理

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摘要

金刚石膜场致发射过程是电子从导电基底开始,经基底/金刚石界面、金刚石薄膜体内传输到表面,然后穿过表面势垒进入真空、经真空电场加速到达阳极的一个复杂过程.对该过程进行了较为详细的分析和介绍.

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来源
《真空与低温》|2003年第2期|76-80|共5页
作者
雷青松;
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作者单位

兰州物理研究所,甘肃,兰州,730000;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TN304.055;
关键词
场致发射; 电子亲合势; 势垒;
入库时间 2023-07-25 22:37:45

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