AZ91D镁合金微弧氧化膜的制备工艺研究

摘要

在NaAlO2电解液体系中,采用自制微孤氧化成套设备对AZ91D镁合金进行微弧氧化.采用5因素4水平正交设计试验法,以膜层厚度和耐蚀性为指标,综合考察了各因素对膜层结构和性能的影响,确定最佳工艺条件为20g/L NaAlO2,7g/L Na2B4O7,频率500Hz,正占空比20％,氧化时间30min.对该工艺下制备的微弧氧化膜层进行SEM、XRD分析,膜层含有较多的MgAl2O4、MgO和Al2O3晶体相;相对基体而言,微弧氧化膜层耐蚀性提高2～3个数量级.动电位极化曲线及电化学交流阻抗测试进一步表明,AZ91D镁合金微弧氧化后,其耐蚀性明显提高.