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理论强度公式在X-射线荧光光谱分析中的应用

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摘要

介绍理论强度公式的应用:计算基体效应,估算三次荧光;标准样品数据及实验条件的检验;预测标样的适用性;稀释率的确定.

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来源
《光谱学与光谱分析》|2002年第2期|328-330|共3页
作者
王桂华; 谭秉和;
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作者单位

北京科技大学化学系,北京,100083;

北京科技大学化学系,北京,100083;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类Ｘ射线荧光分析法;
关键词
X-射线荧光; 理论强度公式; 基体效应;
入库时间 2023-07-24 20:32:12

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