有限扫描反射面天线纵向偏焦性能的研究

摘要

随着相控阵天线的不断发展,有限扫描反射面天线已经成为当前的研究热点,为了符合新时代天线多功能的需求,提出一种基于抛物面形变的纵向偏焦特性。设计一个标准正馈反射面天线,使其馈源固定不动,而利用调节反射面焦距来达成天线的偏焦,其偏焦特性类似于抛物面天线的纵向偏焦特性;设计一个双焦点反射面,由XOZ平面抛物线和YOZ平面抛物线正交互异设计双焦点反射面天线,令YOZ平面抛物线焦点外推、XOZ平面抛物线焦点不变构成一个双焦点反射面。验证了该方法在一维阵列作为馈源的有效性,双焦点反射面相较于标准抛物面,在EL方向上该天线增益上升了14.29 dB,且波束宽度基本不变;此外,该方法还能容纳所有馈源同时工作,降低了单个馈源喇叭的功率且增益相较于点波束天线只下降了4.85 dB。该方法将为后续有限扫描反射面天线在设计一维扫描或二维不等范围扫描提供理论支撑。