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组织均匀钽溅射靶材的制备现状

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摘要

广泛应用于电子信息产品制造业中的高纯钽溅射靶材,其微观组织均匀性、晶粒尺寸大小及晶粒取向分布对溅射性能有着直接的影响.本文主要综述了高纯钽溅射靶材制备工艺,分别从粉末冶金法和熔炼铸锭法进行对比,并对今后的研究方向提出设想.

著录项

来源
《山东工业技术》 |2017年第18期|63,159|共2页
作者
郝小雷;
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作者单位

西安诺博尔稀贵金属材料有限公司,西安710000;

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正文语种 chi
中图分类
关键词
钽; 溅射靶材; 熔炼铸锭法; 粉末冶金法; 组织;

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