室温常压溶液法合成烯丙基功能化的正六边形硅纳米晶体

摘要

室温常压下,以氢化铝锂为还原剂在溶液中还原烯丙基三氯硅烷和四氯化硅体系,制备了烯丙基功能基团修饰的正六边形硅单晶.采用透射电子显微镜（Transmission Electron Microscopy,TEM）和傅里叶变换红外光谱（Fourier Transform Infrared,FTIR）对产物进行表征.研究了硅晶体的尺寸分布、晶面取向及表面组成,推测了可能的反应机理.结果表明,三氯硅烷与四氯化硅浓度比为1：3时经过还原可生成尺寸为20~50nm,表面有烯丙基基团的（111）晶向的单晶硅.