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邓杰雄;
深南电路股份有限公司;
蚀刻绝缘; 树脂塞孔; 酸性蚀刻; 碱性蚀刻; 背钻;
机译:通过两步或更多步的化学蚀刻工艺制造的单面或双面凹槽型谐振器
机译:单面或双面沟槽型谐振器通过两种或更多种步骤的化学蚀刻工艺制造
机译:顶部栅极非晶In-Ga-Zn-O器件制造工艺在栅极绝缘体沉积和栅极绝缘子蚀刻中的氢行为
机译:通过化学蚀刻工艺制造的单面凹槽型或双面凹槽型谐振器
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:玻璃热电改性蚀刻的研究及其在结构蚀刻中的应用
机译:用于硅蚀刻的低功率,低压反应离子蚀刻工艺,用于垂直和光滑壁,用于机动机动学应用
机译:电子回旋共振(ECR)技术的工艺模型和互补实验:沉积和蚀刻的应用。第二阶段
机译:单面蚀刻机器的蚀刻工艺门
机译:应用绝缘处理的金属蚀刻产品的制造方法和应用绝缘处理的金属蚀刻产品的制造方法
机译:用于局部蚀刻用于电子发射器件的制造中的基板的工艺包括:在蚀刻导电层之后,在热的作用下蚀刻绝缘层;以及在绝缘层中形成凹槽。
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