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曾林; 李宁; 黎德育;
哈尔滨工业大学化工学院应用化学系 黑龙江 哈尔滨 150001;
镀锡钢板; X射线光电子能谱; 俄歇电子能谱; 辉光放电光谱; 电子探针微区分析;
机译:通过Al_2O_3钝化膜同时防止氧化甚至通过Al_2O_3钝化膜来溅射MOS_2薄膜的霍尔效应迁移率。
机译:从实际钝化膜到人工钝化膜,再次到实际的钝化膜
机译:Ni-Cr合金上的纳米氧化物和钝化膜的化学和相组成。二。 1 N H_2SO_4中合金阳极钝化产生的薄膜的XPS分析
机译:铝氧化铝表面钝化与热ALD,等离子体ALD和PECVD的膜膜膜膜膜膜膜
机译:二氧化硅存在下硫铁矿的碱性压力氧化-钝化膜的表征。
机译:a-Si:H(i)/ Al2O3表面钝化堆栈中原子层沉积的Al2O3膜的氧化前体依赖性
机译:通过在氮气环境中退火在低温下沉积在低温下钝化氧化膜的钝化膜
机译:原位XaNEs研究了钝化膜在铁和人造钝化膜上的阴极还原行为
机译:氧化钝化膜的金属材料是由锻造而成的,氧化钝化膜的金属模和零件的形成是由锻造而成的。
机译:用于形成半导体衬底的钝化膜的材料,用于半导体衬底的钝化膜,用于生产半导体衬底的钝化膜的方法,太阳能电池元件以及制造太阳能电池元件的方法
机译:刻蚀硅晶片表面氧化物膜的方法,用氧化物膜对硅晶片的金属污染分析方法以及用氧化物膜制造硅晶片的方法
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