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影响PCB镀镍层厚度和均匀性的因素及工艺优化

     

摘要

镀镍在印制电路板表面处理工艺中具有重大的作用.使用哈林槽对影响电镀镍的各因素进行探讨,定义镀镍效果由镀镍层厚度均匀性和厚度平均值共同评定.分析了不同电流密度与时间的组合对电镀镍层厚度的影响,获得了适合镀镍的Jk为2.5~3.0 A/dim2.运用正交试验设计的优化方法,对镀镍层进行了附着力性能检测.获得镀镍最佳工艺参数为16 g/L NiCl2·6H2O,400 mL/L Ni(NH2SO3)2,48 g/L H3BO3,pH为4.2.对正交试验的结果进行了多元非线性回归分析,定量解释了因素之间的变化规律.

著录项

  • 来源
    《电镀与精饰》|2015年第1期|5-9,13|共6页
  • 作者单位

    电子科技大学微电子与固体电子学院,四川成都610054;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,四川成都610054;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,四川成都610054;

    电子科技大学微电子与固体电子学院,四川成都610054;

    博敏电子股份有限公司,广东梅州514000;

    博敏电子股份有限公司,广东梅州514000;

    博敏电子股份有限公司,广东梅州514000;

    广东光华科技股份有限公司,广东汕头515061;

  • 原文格式 PDF
  • 正文语种 chi
  • 中图分类 TQ153.12;
  • 关键词

    电镀镍; PCB; 正交试验设计; 非线性回归分析; 分散性;

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