化学气相沉积SiO2／S复合涂层的热力学分析

摘要

以二甲基二硫化物(DMDS)和正硅酸乙酯(TEOS)为反应物在25Cr35Ni合金基体上化学气相沉积SiO2/S复合涂层。应用热力学势函数法对SiO2与S的生成反应以及反应产物之间的化学反应进行了热力学计算和分析,并对化学气相沉积源物质的配比选择进行了讨论。结果表明:常压下选取预热温度773 K、沉积温度1023 K以及适当配比的源物质化学气相沉积SiO2/S复合涂层是可行的。