聚硅氧烷基纳米多孔薄膜双分形结构的同步辐射小角X射线散射分析

摘要

以聚硅氧烷基材料为预聚体,采用两种核壳型致孔剂,以旋涂工艺分别制备两组聚硅氧烷基纳米多孔薄膜,采用北京同步辐射装置(BSRF)光源进行了小角X射线散射测试,在掠入射模式(入射角iα=0.2°)下得到了两组不同孔隙率纳米多孔薄膜的二维散射数据,在此基础上分析了薄膜的分形特征,发现所制备的薄膜除试样A1外,均存在双分形结构,辅以场发射扫描电子显微镜(FESEM)观测,证实微孔为产生散射的主体。