TPC—I3—体系间接光度法测量痕量Se（Ⅳ）

摘要

提出了表面活性剂ＴＰＣ存在下Ｉ３＾－间接光度法测定痕量硒方法。方法灵敏度高（ε＝１．１４×１０＾６），除铁外其它离子基本无干扰，选择性好，测定含Ｓｅ（Ⅳ）２．０μｇ样品１０次，ＲＳＤ＝３．９％，精密度理想，适于生物样品及产中Ｓｅ（Ⅳ）测定，结果令人满意。