不同类型掺杂剂对AgCl微晶中光电子衰减特性影响

摘要

电子陷阱掺杂可明显改善晶体材料中光电子衰减特性,最终改善其物理性能。利用微波吸收介电谱检测技术,对30%Ag位置处掺杂不同浓度K4[Ru(CN)6]和(NH4)2IrCl6的立方体AgCl微晶中自由和浅束缚光电子衰减时间(FDT,SDT)分辨谱进行了检测。结果表明,对于掺杂K4[Ru(CN)6]的样品,随掺杂浓度增加,FDT逐渐从157ns延长至520ns;且不同浓度掺杂时的FDT均大于未掺杂时的FDT(150ns)。而对于掺杂(NH4)2IrCl6的情况,随掺杂浓度增加,FDT逐渐从126ns减小至45ns;且不同浓度掺杂时的FDT均小于未掺杂时的FDT(150ns)。分析得知,K4[Ru(CN)6]掺杂在AgCl中引入了能暂时俘获光电子的浅电子陷阱(SETs);而(NH4)2IrCl6掺杂在AgCl中引入了能长时间俘获光电子的深电子陷阱(DETs)。同时对光电子衰减动力学过程分析得知,陷阱的类型对光电子衰减寿命分区影响不同,SETs的引入使光电子衰减寿命曲线明显呈现两个指数衰减区,而DETs的引入使光电子衰减寿命曲线只呈现一个指数衰减区。