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姚汉民; 袁大发;
[1]中国科学院光电技术研究所!成都;
[2]610209;
X射线光刻; 软X射线; X射线光刻机; 光致抗蚀剂;
机译:SSRF中软X射线干涉光刻技术的最新发展
机译:SSRF在软X射线干涉光刻中的发展
机译:用于软X射线光刻的200 J等离子体聚焦装置的氖软X射线发射的优化
机译:增强200 J等离子聚焦装置产生的霓虹软X射线发射,可用于软X射线光刻
机译:酚醛清漆抗蚀剂的软X射线光刻研究
机译:具有聚焦软X射线的可加性纳米光刻技术:基础知识挑战和机遇
机译:使用电子束光刻写入相掩模,由近场全息术制造的软X射线变化线间隙
机译:用软X射线光刻技术制备高纵横比区域板的研究进展
机译:极紫外软X射线投影光刻方法系统及光刻元件
机译:极紫外软X射线投影光刻技术系统和光刻要素
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