超微细光刻中偏振光成像研究

摘要

在大数值孔径、短波长的投影光学光刻系统中,对S偏振光、P偏振光和非偏振光在硅片上的成像进行了研究,发现S偏振光成像具有最高的光强对数斜率值和最大的对比度;模拟了S偏振光通过掩模的电场分布机理,结果表明,可以通过调制照明光的偏振性来提高成像对比度和分辨力.