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Teyl.; GN; 任延同;
软X射线; 光刻; 抗蚀剂;
机译:二次效应对使用深X射线光刻技术制造亚微米抗蚀剂结构的影响
机译:基于高对比度抗蚀剂层的深3D X射线光刻
机译:高宽高比的微型图像在Sylmand深X射线光刻中的厚抗抗蚀剂层
机译:用晶圆光刻测定技术评价X射线光刻化学放大抗蚀剂的抗蚀剂
机译:酚醛清漆抗蚀剂的软X射线光刻研究
机译:靶向和持续药物输送系统的X射线光刻技术制备的包裹有Lapatinib粉末的生物可降解聚合物微结构的评价
机译:深X射线光刻亚微米抗蚀剂结构制备中的二次效应的影响
机译:低于0.15微米设计规则的点光源X射线光刻系统
机译:软XX射线光刻技术
机译:在电子束或X射线光刻中形成精细抗蚀剂图案的方法
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