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机译:深X射线光刻亚微米抗蚀剂结构制备中的二次效应的影响
Abrar Faisal; Thomas Beckenbach; Jürgen Mohr; Pascal Meyer;
机译:二次效应对使用深X射线光刻技术制造亚微米抗蚀剂结构的影响
机译:深层X射线光刻技术中的抗蚀剂溶解速率和倾斜壁结构
机译:深X射线光刻中掩模衬底材料对抗蚀剂侧壁粗糙度的影响
机译:基于两个光刻的技术,用于制造亚微米到深亚微米结构
机译:轨道蚀刻玻璃膜在亚微米制造,光刻和纠错中的应用。
机译:基于深X射线光刻技术的高纵横比锥形微柱的制备
机译:使用Synchrotron硬X射线光刻制造斜亚微米结构
机译:聚合物表面的改性及亚微米级功能化结构的深紫外和电子束光刻制备
机译:用深x射线光刻技术制造三维微观结构的方法
机译:用于深亚微米光刻的低缺陷薄抗蚀剂处理
机译:结合两个电阻层的尺寸结构亚微米级光刻的制造方法
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