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微光刻; 纳米光刻; 全息照相; 微细加工; 极紫外光刻; 光学系统;
机译:使用三维组装掩模的高纵横比Meso-Scale通道中微壁光刻的微壁光刻
机译:使用紫外线可固化正性电子束光刻胶,通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
机译:在非洁净室环境中使用干膜光刻胶对微流控设备的软光刻母版进行快速原型制作
机译:通过直接激光刻写光刻和热解法制备3D玻璃陶瓷微/纳米结构
机译:开发用于微/纳米光子学和电子学的三维光刻和化学光刻。
机译:在非洁净室环境中使用干膜光刻胶对用于微流控设备的软光刻母版进行快速原型制作
机译:用于微制造和微成型的微层光刻
机译:更新sEmaTECH 0.5 Na极紫外光刻(EUVL)微场曝光工具(mET)。会议:spIE - 极紫外(EUV)光刻V,加利福尼亚州圣何塞,2014年2月23日;相关信息:Journal.publication日期:90481m。
机译:用于纳米光刻的微尖端阵列的制造方法以及使用该微尖端阵列的纳米光刻的方法
机译:用于极端UV(EUV)应用的光学系统EUV光刻具有微通道系统,该系统包括微通道段,该微通道段具有通过冷却介质的微通道,并与微镜相关联
机译:用于微光刻的微镜装置,包括微镜,该微镜具有在反射镜表面上施加的反射面和在反射面之外的在反射镜基板上施加的抗反射涂层。
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