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杜光天;
无;
靶; 添加剂; 离子源; 负溅射; 流强;
机译:离子质谱法研究Al:Zn靶磁控溅射溅射Ar / O_2等离子体中的负离子
机译:掺铝ZnO靶形成负氧离子的机理及低温离轴直流磁控溅射薄膜的电学和光学性能的改进
机译:通过离子束溅射沉积从陶瓷靶通过离子束溅射沉积生长的TiO <下标> 2 下标>薄膜的研究
机译:磁控溅射型离子靶磁控溅射离子源生产氮化铝离子
机译:在半极化的He-3靶上半负性深非弹性反应n匕首(e,e'pi负)X中产生负离子的单靶自旋不对称性的测量。
机译:用于分子深度分析的溅射中性分子的强野光阳离子
机译:等离子体聚焦实验中强氘等离子体流与SiC靶相互作用的研究
机译:等离子体诊断研究过程变量对射频磁控溅射过程中从(1-x)Li4siO4:(x)Li3pO4靶射出的原子和分子种类的影响。
机译:通过金属间靶的溅射进行蚀刻以形成负金属离子,从而产生对并置基板的蚀刻
机译:用于通过溅射涂覆移动基板的管磁控管装置,包括连续点燃旋转管靶的靶表面上的等离子体,该靶被切换为阴极并且使用布置在管靶附近的阳极
机译:如何制造可旋转的溅射靶基,可旋转的溅射靶,涂覆装置,可旋转的溅射靶,靶基连接装置以及将用于溅射装置的可旋转的靶基装置连接至靶的方法
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